霍廷格工程師現場指導HIPIMS電源在真空離子鍍膜機的結合測試
發布時間：2017-04-06
德國霍廷格公司TruPlasmaHighpulse4000系列發生器是HIPIMS應用的首要之選，作為最先進的脈沖式PVD濺射方法，也是真空PVD離子鍍膜機的重要組成部分，HIPIMS可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質鍍膜，可達8MW的峰值功率以較高的離子通量產生非常密集的等離子體。與電弧放電的原理類似，但HIPIMS技術不會形成微液滴droplet。
霍廷格工程師現場指導
這是丹普公司第二次集成霍廷格公司的HIPIMS電源，為了更好的幫助丹普工程師了解新HIPIMS電源的功能，來自霍廷格波蘭工廠的HIPIMS開發工程師于2017年4月5日，到丹普工廠，現場指導丹普工程師進行HIPIMS電源的工作測試及各種參數設置原則。
聲明：本站部分圖片、文章來源于網絡，版權歸原作者所有，如有侵權，請點擊這里聯系本站刪除。
| 返回列表 | 分享給朋友： |
- 上一篇：春節長假期間丹普設備安全提示
- 下一篇：丹普受邀參加霍廷格舉辦的等離子工程電…
京公網安備 11010502053715號